MOS管工艺选型指南:平面/沟槽/屏蔽栅/超结技术
MOS管工艺选型的本质是场景与特性的精准匹配:平面工艺以“抗冲击+低成本”守护小家电电源;沟槽工艺用“深槽刻蚀”破解中低压高频损耗难题;屏蔽栅工艺靠“米勒电容降低10倍”实现超高频同步整流;超结工艺通过电荷补偿突破高压场景硅极限。MOS管的正确选型可使BOM成本降低20-30%、效率提升4-6%。
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