5年12起诉讼！泛林在韩发起“专利战术”，PSK案法院要求现场验图

近日，韩国首尔中央地方法院就美国半导体设备大厂泛林集团（Lam Research）起诉韩国设备商PSK专利侵权案举行第五次庭审。双方围绕核心零部件设计图纸的披露范围激烈交锋，法院最终提出折中方案，要求PSK在下次庭审携带未涂黑的原始图纸现场核验。

值得一提的是，这仅是泛林集团近年来在韩国发起的系列专利诉讼之一。据韩国国民力量党披露，自2020年日韩半导体材料贸易争端以来，泛林已对韩国企业提起多达12起专利侵权诉讼，其在韩注册专利数量更从2020年的68项激增至2025年的344项，引发韩国业界对“专利战术”的高度忧虑。

边缘刻蚀机专利纠纷进入关键阶段

本次庭审争议焦点集中在PSK边缘刻蚀机内部一款核心零部件的实际结构。边缘刻蚀机用于去除晶圆边缘斜面区域附着的不稳定金属及非金属薄膜，此前泛林旗下Coronus系列等离子边缘刻蚀设备长期垄断全球市场，而PSK已实现该设备的韩国本土化，产品供货SK海力士等客户。泛林于2021年提起诉讼，主张PSK侵犯其边缘刻蚀机相关专利，要求赔偿6亿韩元并销毁涉案设备；PSK则反诉请求宣告泛林相关专利无效。

涉案核心部件为气体扩散环（GDR），泛林持有编号1249247专利，独占该环形结构设计权益。泛林方面指出，PSK提交的证据材料中将该部件标注为"GDR"，行业从业者由此可直接判定该零件为环形。

泛林律师进一步指出，零部件剖面图左右两侧均带有倒角，若真如PSK所言是平板结构，剖面图应呈现完整平面、边角为直角，而两侧清晰倒角足以证明零件中间向内凹陷，属于环形结构。泛林同时质疑PSK对型号、尺寸等参数做涂黑遮挡处理，称这些被遮蔽信息是判定零件结构的关键依据，要求提交无遮挡原始图纸完整披露。

双方僵持不下，法院提出折中方案

PSK方面则进行反驳，称文件标注"GDR"仅为行业惯例导致的命名失误，产品正式规格书对该部件有不同定名，泛林仅凭一处命名瑕疵罔顾实物产品形态。PSK补充，此前已提交PRECIA系列边缘刻蚀机实时运行视频作为证据，视频显示设备不存在对应GDR的下部环形结构，整机采用中心封闭的平板部件，庭审中当庭播放了部分视频画面。

针对被遮挡参数，PSK律师表示，与零件外形无关的详细尺寸、规格属于企业商业机密，泛林作为直接竞品企图借诉讼之名获取竞争对手机密信息。

继第四次庭审之后，PSK再度提议法官前往自家工厂实地查验实物设备，但遭泛林拒绝，理由是担心PSK在现场展示其他机型而非涉案PRECIA设备。

面对双方僵持，法院提出折中处理方案：要求PSK在下一轮庭审携带未涂黑的原始图纸，在法庭内现场核验。该方案将按照泛林诉求完整查看图纸可视结构，但图纸不会正式归入案件卷宗留存，避免商业机密被永久存档外泄。

PSK律师申请由法庭先行审阅原图，若仍需进一步核对，仅允许泛林一名代理律师二次查看，泛林方表示同意。此外，泛林当庭正式撤回针对1468221号专利的侵权主张，该专利此前已被韩国专利法院判定无效，泛林向韩国知识产权审判院提起的专利权范围更正申请也于8月3日被驳回。

韩国业界呼吁防范“专利战术”扼杀创新

据韩国最大在野党国民力量党代表具载根办公室从智能财产部门取得的资料，自2020年日韩半导体材料贸易争端爆发以来，泛林已对韩国企业提起多达12起专利侵权诉讼，其中9起集中发生在2022年之后，即泛林在京畿道龙仁市设立研发中心之后。与此同时，泛林在韩注册专利数量呈爆炸式增长，从2020年的68项激增至2025年的344项。

这一趋势引发韩国半导体业界的高度关注与忧虑。具载根表示：“当前韩国半导体产业正面临前所未有的发展契机，政府有责任确保本土企业能在公平环境中竞争，避免遭到国际大厂以专利战术扼杀创新。”他呼吁相关单位重新检讨专利制度，加强对中小企业的法律保障，并建立更透明的专利审查机制，以防范恶意注册与滥诉行为。

两家企业这场边缘刻蚀机专利纠纷案的下一次庭审定于9月举行。原图核验结果及双方是否启动司法鉴定，将直接决定案件走向。