- IBM、美光等巨头联手纽约共建100亿美元芯片园区，引进EUV光刻机，推动全球芯片产业创新
- 东友精密化学计划上调KrF和L线光刻胶价格，涨幅达10%-20%，产业链压力增大
- 国产芯片设备怎么样了？除光刻机，大部分在28nm，2项达到3nm
- 日本宣布全新光刻机！精度小于2.1纳米、价格便宜30％
- 尼康浸润式光刻机上新：效率提升15%，支持5nm芯片，不能卖给中国
- 理论上，浸润式光刻机，制造2nm芯片都没问题，只是成本太高
- 尼康推出浸润式 ArF 光刻机 NSR-S636E，时隔二十多年再发新品
- 进入14nm工艺，国产光刻胶大突破，减少对日本的依赖
- 国产光刻机，只差最后一项技术，就要搞定浸润式，实现7nm了？
- 国产光刻机，三大核心部件，突破到哪一步了？只差临门一脚了
