瞄准Intel 14A工艺，消息称英特尔加购两台High NA EUV光刻机

据报道，英特尔已加大对荷兰芯片设备制造商ASML High NA（高数值孔径）EUV光刻机的购买力度，意图为其Intel 14A（1.4nm）工艺“倾尽全力”。

High NA EUV光刻机被称为芯片市场上的“圣杯”，这不仅是因为其高昂的价格，还因为其光刻质量。Jerry Capital的一篇分析文章披露，英特尔计划从ASML采购2台High NA EUV光刻机，比之前多购1台，这意味着英特尔将加大对未来工艺的芯片制造支出。

英特尔的14A工艺将采用High NA EUV光刻技术。考虑到该工艺的最终成果，这对于英特尔晶圆代工（IFS）部门来说将是一次重大的革新。英特尔已明确表示，如果Intel 14A节点未能获得客户的广泛采用，该公司将放弃高端节点的竞争，因此Intel 14A对IFS来将是“生死攸关”时刻。迄今为止，High NA EUV 设备已被台积电、三星、SK海力士和英特尔等公司采用，并将用于下一代产品。

据称，单台High NA EUV光刻机售价约3.7亿美元（约合人民币26亿元），而英特尔仅在光刻设备上就可能花费10亿~20亿美元（约合人民币142亿元）。这意味着英特尔很可能成为High NA EUV光刻机的主要采用者之一。随着英特尔瞄准Intel 14A工艺的惊人发布，围绕该工艺的代工厂资本支出将大幅增长。

鉴于英特尔依赖这些节点来维持其代工部门和美国芯片制造的雄心，其能否成功攻克Intel 18A（1.8nm）和14A等工艺将充满挑战。（校对/赵月）