日前媒体报道指华中科技大学牵头的研究团队突破了“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术，这项技术研发的光刻胶可以用于7纳米、5纳米工艺，并且比日本的光刻胶还要好，预计很快就能投入量产。

光刻胶为芯片制造的关键材料之一，光刻机将电路图案印刷在晶圆上，涂上光刻胶之后，再由刻蚀机将这些电路图刻蚀出来成为芯片，可以说在芯片制造过程中，光刻胶同样是不可缺少的环节。

日本恰恰在光刻胶等芯片制造材料方面占据绝对优势，分析机构指出日本在芯片材料方面占有六成至七成的市场份额，台积电、三星、Intel等全球领先的芯片制造企业都需要采购日本的光刻胶。

中国这几年大举发展芯片制造产业，同样需要进口日本的光刻胶等材料，这让日本芯片行业从中国市场获得了丰厚的收入，早前日本的东京电子等芯片材料企业就表示2023年从中国市场获得的收入增长五成以上，可见中国市场为他们带来的收入多么丰厚。

不过日本却向来唯美国马首是瞻，2022年下半年以来，在美国的拉拢下，荷兰的ASML暂停对中国出口先进的光刻机，日本则停止了23种先进材料对中国的出口，其中就包括了光刻胶等材料，意图联手封杀中国研发7纳米等先进工艺。

中国芯片行业当然不甘于受制于人，去年8月底中国一家科技企业宣布恢复推出5G手机，其中的5G手机芯片据称就由国内芯片制造企业以现有的光刻机生产，凸显出中国科学家可以基于现有的芯片设备生产先进芯片。

当时业界认为制造这些先进芯片所用的光刻胶等先进材料可能来自于此前囤积的日本光刻胶，靠存货生产芯片终究有限，毕竟光刻胶材料也是有寿命的，这就导致这家科技企业生产的5G手机芯片产量有限。

如今随着光刻胶等材料实现国产化，那么阻碍国产先进芯片实现大规模生产的瓶颈不再存在，那么国产5G芯片就能实现大量生产了，这将进一步抢走苹果、高通等美国芯片企业的市场，促进国内芯片产业的发展。

事实上日本已不是第一次得到教训了，数年前日本与韩国产生纠纷，日本就停止对韩国供应光刻胶等先进芯片材料，韩国迅速组织本土企业合作研发，一年时间就研发成功光刻胶等先进芯片材料，从那时候起日本的光刻胶等材料失去了韩国市场，如今日本芯片行业可能也要失去中国市场了。

日本虽然一直以来都唯美国马首是瞻，然而美国却屡屡压制日本的芯片产业，1990年代之前日本芯片曾占全球芯片市场半数市场份额，日本有人曾笑着对美国人说，如果日本不供应芯片，美国连收音机都生产不了。

后来美国连连压制日本芯片，导致日本芯片迅速败落，尔必达等日本芯片企业已湮灭于历史尘埃之中，如今日本芯片占全球芯片市场的份额已低至一成，可惜的是日本忘记了这些教训，到如今仍然无法实现独立自主，芯片材料本来是日本所剩不多的芯片产业了，如今再失去中国市场，日本芯片在全球的存在感将进一步减弱。