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被美国打醒!俄罗斯打算造光刻机,全新技术,对标ASML的EUV
2022-04-12 来源:互联网乱侃秀
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关键词: 芯片 光刻机

众所周知,目前俄罗斯在芯片方面,是被美国全方面的制裁住了。

俄罗斯芯片需求本不大,一年进口的芯片大约只有1亿美元,所以绝大部分的芯片厂商,也不可能为这一点市场,和美国对着干。

但对于俄罗斯而言,这1亿美元的芯片进口却非常重要,别人眼中只是1亿美元,但这可是俄罗斯的全部啊。

那么俄罗斯该怎么办?近日有媒体报道称,俄罗斯打算从头开始,制造光刻机

并且目标立得非常远,直接盯着ASML最新的光刻机开干,挑战当前最先进的EUV(极紫外)级别。

当然,用ASML的办法来打败ASML是不可能的,毕竟ASML的EUV光刻机是全球帮着造出来的,现在可没人帮俄罗斯来造。

俄罗斯打算是另点科技树,换一种方式,采用新技术来造,那就是研究“无掩膜X射线光刻机”。

曾经的EUV光刻机,是先将芯片设计图,制作成掩膜,再利用13.9nm的紫光线来照射掩膜,把掩膜上的电路图,刻到硅片上,这就是EUV光刻机的作用。

而“无掩膜X射线光刻机”的原理不同,不需要制作掩膜,直接操作波长介于0.01nm到10nm之间的X射线,直接在硅片上,刻画出电路图来。

技术靠不靠谱?这个不好说,技术早就有了,但效率非常低,早期也没有用于芯片制造上。

毕竟操纵X射线,在硅片上将电路图刻出来,想想就让人觉得头痛,落后的工艺可操作性还可以想一下,但想想5nm,上百亿的晶体管,明显太难了。目前也没有一家厂商,真正将技术用在芯片光刻上来。

俄罗斯的计划,要在今年11月开发动态掩膜的技术和模型,以及原型光刻机的技术规范和可行性研究,工艺要达到28nm及以上。

为此俄罗斯首期投资6.7亿卢布(5400万元),将委托有着苏联硅谷中心之称、以微电子专业见长的俄罗斯莫斯科电子技术学院 (MIET)承接,至于后期再投多少钱,那就不清楚了。

至于最后能不能成功,那就更加不清楚了,但如果能够成功,这对于全球的芯片产业而言,都将是一件影响格局的事情。


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