- 台积电、三星将导入ASML High-NA EUV，光掩模尺寸拟从6英寸升级至12英寸
- 英特尔High-NA EUV晶圆处理量突破100万片，超业界其他厂商总和
- 全球已有10台High-NA EUV光刻机投入使用
- High-NA EUV之争：英特尔与台积电走向两种先进制程路线
- 英特尔率先量产High-NA EUV芯片，加速晶圆代工业务突围
- Imec宣布：成功打造全球首款基于High-NA EUV的量子点量子比特器件
- 台积电公布最新路线图：A12、A13、N2U工艺技术发布，2029年之前不使用High-NA EUV
- ASML新一代High-NA EUV光刻机达量产标准，单台造价4亿美元
- 英特尔：ASML首批两台High-NAEUV设备已投产
- ASML和IMEC合力推进high-NA EUV光刻技术试验线
