- 三星加购两台High NA EUV光刻机，增强2nm代工工艺
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- 俄罗斯公布EUV光刻机路线图，采用“非主流”技术路径
- 俄罗斯发布EUV光刻机路线图：2036年实现10nm以下制程芯片制造
- 【进展】新研究提出用光为量子自旋“护航”；中国科学院微电子研究所在EUV光刻收集镜红外辐射抑制方面取得新进展；中国科学院国家纳米科学中心鄢勇团队在基于离子型神经形态器件构筑智能味觉系统方面取得进展
- 可量产0.2nm工艺！ASML公布超级EUV光刻机：但死胡同也不远了
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- ASML摊牌：1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片时，才要换EUV光刻机
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