- 美国初创公司Substrate宣布光刻新技术，挑战ASML与台积电
- 台积电弃购4亿ASML光刻机 转用低成本方案攻坚2纳米
- 三星加购两台High NA EUV光刻机，增强2nm代工工艺
- 瞄准Intel 14A工艺，消息称英特尔加购两台High NA EUV光刻机
- 俄罗斯公布EUV光刻机路线图，采用“非主流”技术路径
- 俄罗斯发布EUV光刻机路线图：2036年实现10nm以下制程芯片制造
- 清华大学李星辉团队在跨尺度结构混合光刻制备技术领域取得重要进展
- 传中芯国际在测试首款国产28纳米DUV光刻机
- 传光刻机巨头ASML将13亿欧元入股“法国OpenAI”
- 三星豪购ASML顶级光刻机！2nm芯片能否逆袭台积电？
