- 台积电弃购4亿ASML光刻机 转用低成本方案攻坚2纳米
- 三星加购两台High NA EUV光刻机,增强2nm代工工艺
- 瞄准Intel 14A工艺,消息称英特尔加购两台High NA EUV光刻机
- 俄罗斯公布EUV光刻机路线图,采用“非主流”技术路径
- 俄罗斯发布EUV光刻机路线图:2036年实现10nm以下制程芯片制造
- 传中芯国际在测试首款国产28纳米DUV光刻机
- 传光刻机巨头ASML将13亿欧元入股“法国OpenAI”
- 三星豪购ASML顶级光刻机!2nm芯片能否逆袭台积电?
- 上海芯上微装第500台步进光刻机成功交付
- 全球首台!顶级天价光刻机出货;英伟达H20解禁,中国需加速国产替代;台积电工人被砸伤、高管变动