美国议员拟推“MATCH法案”，收紧对华DUV光刻机出口

近日，美国国会两党议员联合提出一项名为《硬件技术控制多边协调法案》（MATCH Act）的立法草案，旨在进一步限制中国获取半导体制造设备的能力。

该法案若获通过，将对荷兰芯片设备巨头阿斯麦（ASML）的对华业务造成重大冲击，引发市场担忧，导致其股价在欧洲股市开盘后一度下跌约2.6%。

该法案的发起人、华盛顿州共和党众议员迈克尔·鲍姆加特纳的办公室在4月2日发表的一份声明中表示，“尽管美国实施了广泛的出口管制措施来减缓中国半导体自主化进程，但美国的盟友并没有完全采取相应的措施。这种不协调造成了关键漏洞，而中国正在继续利用这些漏洞。”

MATCH法案的核心目标是切断中国主要半导体企业获得关键制造设备的渠道，并特别点名中芯国际、华虹半导体、华为、长江存储和合肥长鑫等五家中国公司。法案不仅计划禁止向这些企业出售新的设备，更拟禁止为已售出的受限设备提供日常维护、软件升级及关键零部件更换服务。

该法案的管制范围也从以往最尖端的极紫外光刻机（EUV）大幅延伸至应用广泛的浸润式深紫外光刻机（DUV）。DUV光刻机是制造28纳米及以上成熟制程芯片的关键设备，而成熟制程正是当前中国芯片产业的主力。

尽管ASML从未向中国出口过EUV设备，但其在2025年对华销售额仍占全球总销售额的约33%，是其最重要的营收增长引擎。该公司曾预测，受现有管控影响，2026年这一比例将降至约20%。若MATCH法案最终落地，这一数字恐将进一步急剧下滑。

市场分析普遍认为，该法案对ASML的业绩将产生显著影响。

Quilter Cheviot的技术研究主管Ben Barringer指出，受影响的DUV设备约占ASML总销售额的10%-15%，其中中国市场约占一半，因此可能带来约5%的直接冲击。尽管其他地区的销售额可能因非中国厂商扩产而增长，但恐不足以完全抵消失去的中国收入。

目前，该法案仍处于立法初期的听证阶段，需经过参众两院投票及总统签署方能生效。“虽然该法案尚处于早期阶段，结果尚不明朗，但它造成了地缘政治上的不确定性。目前还不清楚所有DUV设备是否都会受到影响，或者目前对某些DUV设备的限制是否会延长。” ODDO BHF股票研究主管Stephane Houri表示。

但值得一提的是，由于其获得了跨党派的支持，市场普遍认为ASML在2026年下半年获得通过的可能性较高。ASML官方对此立法动向拒绝置评，而荷兰外交部则重申贸易政策应由主权国家独立监管。

分析人士指出，过去几年的限制措施在一定程度上反而促进了中国国内半导体产业的发展，多家中国公司营收创下新高，一些企业也已经找到了一些被切断技术的替代方案。